2024年9月，荷兰政府对外宣布，限制荷兰ASML公司将光刻机出口到中国。

其实关注光刻机领域的朋友应该知道，荷兰政府此次的表态并不是突如其来的，甚至都不是第一次了。在过去的几年，中国和荷兰一直在就光刻机问题进行谈判，只是一直没有谈拢。此次荷兰突然发表限制光刻机出口中国的声明，这无疑是一种撕破脸的表现。

而你说巧不巧，就在荷兰那边刚出了限令，中国便宣布成功研发出第一台国产氟化氩光刻机，此新闻一登上热搜。大家都在猜测：这是为了给荷兰一个下马威吧？

可是到底为什么中荷两国会在光刻机这方面出现矛盾呢？我们自研的氟化氩光刻机，相比起顶尖的ASML光刻机，又是什么规格的技术？

为什么荷兰要限制国内光刻机出口中国？

首先一个很重要的原因就是大国之间博弈的结果。一直以来中国在光刻机的研发方面未有很大进展，可偏偏国内目前半导体产业、芯片行业都需要光刻机的加持。从全球的范围来看，荷兰ASML公司的光刻机属于第一梯队，能够完全满足中国多行业的应用。

但是荷兰作为美国的盟友，一直想要通过技术技术封锁来限制中国的发展。尤其是像芯片这种高精尖领域。就算荷兰并没有想要与中国对着干的想法，但是迫于美国的施压，荷兰也不得不如此。此次荷兰政府限制了1970i和1980i的出口，这两款设备对于中国半导体行业的发展来说十分重要。

其实荷兰之前也存在犹豫的阶段，他既不想得罪美国，也不想失去中国这个庞大的市场，所以前几年中荷两国也是一直处于谈判阶段。可是没想到最终荷兰还是向美国低头，学着美国玩起了卡脖子这一套。

荷兰甚至还声称，自己这么做是为了本国国家安全着想，这一毫无逻辑的说辞显然不被人接受，毕竟在世界各个国家，光刻机的应用并没用和军事或者其他能够危害国土安全的领域有直接关系，荷兰如此解释，有种掩人耳目的感觉。

不过中国并没有让他们得逞，在荷兰发表限制声明后，中国立马公布了自主研发的光刻机信息，展示了实力大国风范。

中国卡点发布自研光刻机有何深意？

荷兰政府刚发表限制声明不久，中国就宣布了中国首台自主研发的光刻机——氟化氩光刻机。两个国家一前一后的行为，让各位网友们看不懂了，尤其是中国在这个时间点宣布自己的光刻机成果，显然背后另有深意。

首先在这一次公布声明中，中国再一次向世界展示了中国在光刻机领域的技术实力。同时也在给荷兰政府一个警告。

简单来说，就是荷兰政府想通过技术封锁打压中国，但是中国已经实现了光刻机的自主研发，如果荷兰继续做一些不符合事宜的事情，一旦中国自主研发的光刻机完全成熟，那么荷兰在中国的市场份额将会面临巨大的挑战。毕竟对于荷兰来说，失去中国市场是很疼的。

另外，中国这些年也确实没有停下光刻机自主研发的脚步，毕竟只有掌握了自主研发生产，才能够保证产业链的完整推进。

随着中国突然卡点宣布自研光刻机的新闻一出现，各国网络上也炸开了锅，很多国外网友趁机也出来挑起了刺。他们认为，中国目前光刻机的套刻精度在8纳米之下，这个技术水平根本与荷兰没法比，毕竟荷兰ASML公司在20年之前就达到了这一技术水平，他们认为中国此次完全是自嗨行为。

其实看一个国家在某一领域的技术水平，并不能放在同一时间维度上来看，毕竟荷兰ASML公司起步非常早，技术水平必然全球领先。换句话说荷兰ASML也不是最早开始研究光刻机的，最原始的研发国家应该是日本，光刻机的奠基技术可以追随到日本的索尼佳能公司。

目前中国能够研发出精度在8纳米以下的光刻机，本身就是一种巨大的进步。一旦有了第一款光刻机的基础，后面国产光刻机的技术必然会以加速度的方式向前推进，直至能够和国际领先水平进行媲美。

中国实现自主研发的意义如何？

光刻机，作为半导体领域发展的绝对技术支撑，想要完全攻克这项技术，难度是非常大的。最基础的技术门槛以及长期的研发投入就已经可以劝退很多国家了。所以这就是为什么哪怕中国此次研究出来的光刻机技术并未全球领先，却足以证明中国实力的原因。

光刻机在研发的过程中，有一条非常复杂的供应链。也就是说，完整的上产一台光刻机，只靠一个团队或者企业是很难完成的，毕竟在制造过程中，还需要将光源、镜片，甚至是其他零件的技术水平都要非常高的要求，并且能够达到持续不断地供应服务要求。早前中国在这些方面或多或少都存在短板。

另外在目前世界范围内，荷兰ASML公司的光刻机技术是断崖式领先状态，该公司研发的EUV光刻系统技术是全球独一份的，就连美国和日本这些在光刻机方面 已经有一定研发历史的国家面前，ASML也有绝对的底气，所以未来这个企业必将是中国在国际市场上强有力的竞争对手。

目前中国面临的市场环境固然严苛，但是我们依然不能否定中国在这方面的努力和成果。伴随着国产光刻机的研发成功，标志着中国已经可以打破国外技术封锁的束缚。或者说未来中国在光刻机方面的需求已经不再100%的依靠国际市场，保障了产业链的自主可控性和安全性。

作为一台国产光刻机，这是国内这个行业的起点，未来中国仍然会继续投入对光刻机的研发和生产，来保证半导体行业所需技术的国产条件。

伴随着国产光刻机的出现，也为中国打开了世界市场的大门。毕竟在一些对光刻机精度要求并没有那么高的国家，中国光刻机也会成为他们的选择之一，这无疑是增加了中国光刻机在国际市场上的占有率。

总的来说，中国此次自主研发出来的氟化氩光刻机，在中国半导体行业具有里程碑式的意义，相信未来中国在这一方面必然会不断革新，努力追赶，完全实现光刻机自由！

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