复旦大学的政治系沈逸教授在访谈中评价国产光刻机,这个大体上差不多是浸润式的前一代,是干式技术。这个你要是去跟ASML去比,毫无疑问,差不多就是人家10年、20年前的设备水平,这没有什么好避讳的。但问题是这东西是我们花了多长时间,采用了非美工艺和产业生态搞出来的,这就很牛了。
不只是国产的光刻机,ASML的光刻机也并不是荷兰公司自主研发的产品,镜头是德国蔡司的,光源技术是美国的,并且在其他方面也采用了来自于美国的大量技术。
而中国这台光刻机是什么概念,是非美供应链的光刻机。也就是说,中国现在推出来这台设备,美国想要长臂管辖进行延伸制裁,根本就制裁不了我们。
并且这台国产的光刻机设备,第一方面可以基本上覆盖成熟制程的工艺产品。第二方面,就是在于美国卡中国的脖子的最大理由是什么?就是将芯片应用到军事技术领域。
而现在军事领域的芯片技术,并不是我们经常谈论的5nm、3nm,反而是65nm、90nm这些成熟制程工艺的技术产品。
我们这台干式的氟化氩光刻机,分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm,可以进行55nm芯片的制造。由于套刻精度是8nm误差,所以通过多曝光的技术,在最极限的情况下可以进行40nm芯片的制造。应用在手机这种产品上面肯定是不合适的,但是应用在军事领域是完全足够的。
并且沈逸教授还在访谈中指出,中国这台国产光刻机的推出,相对于美国来说,更像是给荷兰政府看的。也就是说,中国现在可以大规模的去推广宣传干式光刻机,那么你觉得,中国科研团队在实验室里面正在研发的那些东西是什么?
等到实验室中的技术设备做出来的时候,未来3到5年的这个市场是怎么样的,就需要荷兰政府以及ASML公司来考虑了。是选择继续跟美国站在一队,以后迎来断崖式的下降,成为跟英特尔一样,旗下业务被其他国际巨头瓜分的企业,还是准备跟中国进行务实的贸易合作,搭上中国发展的快车,这都是至关重要的环节。
现在中美两国的博弈点,已经从当初的芯片产品,转变为了国际上面的企业立场。
最核心的还是荷兰的ASML公司,ASML现在要考虑的就是应不应该握手中国市场,跟中国站在一起搞技术。至于美国这方面,需要考虑的就没那么多了,美国劫杀其他国家的企业从来都不心疼。
中国未来光刻机的发展方向就是从干式技术,走向浸润式技术,然后再入手极紫外线的整套技术设备。
从另一方面来说,美国宣布对已经出售给中国的浸润式DUV光刻机,在耗材以及软件维护上面不再进行售后维护,这也是中美两国博弈之间的焦点。
从积极的层面来说,美国对中国现有光刻机进行售后体系的制裁,这样会让国内一些涉及到光刻机产业链、涉及到芯片制造的企业迎来一次爆发式的技术增长。
许多年以前,日本与韩国在半导体材料上面有过一次纷争。日本对韩国实行材料出口的限制,结果让中国的一些涉及半导体制造材料的企业吃到了红利。
如果荷兰选择跟美国站在一队,针对中国市场进行压制。那么按照西方国家的规则,我们是可以直接没收荷兰ASML所在中国的这些企业资产。
这就需要给ASML提个醒,中国的消费市场在国际层面都是相当庞大的水平,如果放弃了这片市场,那么这个损失是相当大的,需要用好多个国家的市场才能赚回来。再加上中国前几年采购ASML光刻机的价格高达百亿人民币,而且这个数值每年都在增长,与中国市场进行经济脱钩,无异于直接动了荷兰以及ASML的核心利益。
早在多年以前,长春的光机所就已经完成了EUV技术曝光台的技术认证,掌握了部分EUV光刻机的技术体系。但是由于其他零部件的供应链问题,还无法将这种技术进行商业化发展。
如果以后国内可以解决EUV技术的供应链问题,那么距离中国进行光刻机的产品换代也就不远了。
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