西方垄断撕开缺口：哈工大突破13.5纳米极紫外光，光刻机有望突破

这次打破荷兰阿斯麦封锁的不是华为，而是我们的的哈尔滨工业大学。哈工大官方已经宣布了，他们成功研发出了13.5纳米的极紫外光源技术，这可是EUV光刻机里头的核心技术呢！那么，哈工大的极紫外光技术和中国EUV光刻机发展前景究竟如何呢？

有很多朋友不知道为什么阿斯麦不敢买先进光刻机给我们中国？那是因为阿斯麦的EUV光刻机，它的极紫外光源都是美国公司提供的，全球也就只有美国能掌握这技术。所以，要是阿斯麦给中国供应光刻机，美国就能反过来限制阿斯麦的脖子，不给它供应极紫外光源。这样一来，阿斯麦也会被搞得很头疼。

极紫外光，究竟是什么那么牛呢？波长超短的紫外线，短到只有13.5纳米，比我们平时说的紫外线还要短上一大截。因为这么短，所以它能做到的光刻分辨率就更高了，简单来说，就是在芯片上能刻出更精细的图案。

这样一来，芯片上就能放下更多、更小的晶体管，芯片的性能自然就上去了。

但是，要搞出这种波长的光，还得保证它够亮、够稳定，可不是件容易的事儿。全世界能做到的也就那么几个大佬公司和科研机构，所以这极紫外光刻机就一直被他们垄断着。

不过，我们哈工大的教授团队很厉害，他们用放电等离子体技术，给气体加上高压电，让它变成等离子体，然后就能发出极紫外光了。这是一个很大的突破。

极紫外光究竟有多么重要呢？如果没有极紫外光源，EUV光刻机就玩不转了。就像平时用的那种紫外线灯，只能照照表面，深层的活儿它干不了。传统的DUV光刻机，用的就是深紫外光源，就像个力气不够大的小工人，最多只能做到14纳米以上的活儿。就算再怎么给他加油打气，他也只能勉强干到7纳米，再细就力不从心了。

中芯国际为啥只能停留在7纳米呢？还不是因为EUV光刻机被阿斯麦给卡得死死的。我觉得吧，最多三年，我们就能见到中国自己的全国产EUV光刻机了。为啥这么有信心呢？因为一台EUV光刻机啊，它就像个大拼图，得有四块关键的拼图碎片拼接而成。其中一块就是极紫外光源发射器。美国那边是用透镜技术来搞这个光源，而哈工大呢？走的是粒子加速辐射的路子，就像是走钢丝和走平衡木的区别，哈工大的这条路虽然难走，但走通了，精度还更高呢！

光刻机里面还有另外三个关键部分啊，光学物镜系统、双工件台，还有控制系统。以阿斯麦光刻机为例，这三个关键零部件，也不是荷兰自己完全造出来的，荷兰主要负责的是双工件台。光学物镜系统呢，是找的德国蔡司帮忙；控制系统就更复杂一些了，是由很多国家参与制造，这中间包括美国、德国、日本等等，供应商加起来有5000多家，零部件得有10万多个。

我们假设一下啊，如果中国哈工大把极紫外光源这个难题给解决了，那剩下的这三个关键零部件能不能也搞定呢？这个没有疑问的，为什么？上海微电子其实早就已经能造出DUV光刻机了，28纳米的芯片都能制造。这就意味着，咱们不靠西方的技术，自己也能搞定双工件台、光学物镜和控制系统。这里提一下，德国蔡司，它并没有跟着别人一起来限制我们，蔡司的光学物镜这个我们中国是可以搞定的。

那么，搞定极紫外光源之后，国产的第一台EUV光刻机就能立马闪亮登场了吗？没这么简单的。接下来的难题啊，就在于怎么让光源更稳定，怎么提高能量的利用效率，还有怎么优化光线引导技术。可别小看这研发芯片技术，它可不是请人吃吃饭那么简单的，每往前迈一小步，需要的钱和技术那可是像滚雪球那样越滚越多。

台积电在美国那边4纳米芯片都已经量产了，2纳米的也正在研究。我们中国要想赶上，荷兰阿斯麦那帮专家说，至少还得奋斗十年呢。

但是，我想说，真的需要十年吗？这我不太赞同。就拿五代机来说吧，美国觉得自己独一份儿，F-22就不生产了。结果呢，F-22一停，咱们中国的歼-20就飞起来了。美国那边还在琢磨要不要再生产F-22呢，六代机都已经亮像了。所以啊，我们中国应该很快就能追上。当然了，28nm以及更成熟的制程芯片也是我们国产半导体产业重点发展的项目。

好，不知道朋友对于哈工大突破极紫外光源还有什么新的看法，欢迎点赞关注写评论，下期再见。关注我，为科技点赞。